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【求助】磁控溅射镀膜的影响因素！
请教大虾关于磁控溅射镀膜的影响因素！例如：生长功率，生长压强，本体压强，靶基距。究竟这些通过影响什么来影响薄膜生长的。还有就是靶材材料究竟是以何种形式打到薄膜上的，是原子还是离子团还是材料不同结果不一样。
我在百度查过，但是感觉不是很详细。
请大虾们以亲身实验告诉小弟，或者给点资料也行。
这个影响很大了。溅射功率、溅射气压、靶基距和背地真空度基本上都是通过改变沉积速率来影响薄膜的结构，进而影响性能的。
简单来说，溅射气压对沉积速率的影响是非单调的，即存在着一个极大值。气压过大（散射多）或过小（电离少）都会造成沉积速率的下降。而溅射功率、靶基距和背地真空度的影响则是单调的。即功率越大、靶基距越小、背地真空度越高，则速率越大。
但沉积速率对薄膜的结构和性能的影响则也是非单调的。过慢（疏松）或过快（缺陷）都会使薄膜的结构变差，进而影响性能。
所以，做磁控溅射，一定要做大量的实验，从而找出最佳的沉积条件。:D 至于靶材的溅射形式，在磁控溅射中是比较复杂的，有离子、原子、也有大堆原子团，形式不单一。但是不会影响最终的成膜。控制沉积好条件，选择好基片的沉积温度（这个也很重要哦），也能长出非常好的薄膜。:D 你是做科研的，这些都是最基本的资料，应该从“薄膜生长”之类的科学书籍之类中找寻，怎么能用百度这种方式呢？
你问的这些问题，都是教材里面的基本资料，找一本教材，好好看看，得到的会比用网络得到的更详细啊。 多泡泡小木虫，里面有很多书籍，像是“薄膜物理”“真空技术”之类的都会有介绍的啊，材料板以前有一个“材料百科全书”之类的，里面讲到薄膜生长技术是非常详细的啊， 英语拼音说的对，还得看书。推荐你一本比较好的书吧，科学出版社的《薄膜生长》，吴自勤、王兵著，06年第四版的。很便宜，才28块。这年头这个价钱能买一本专业书籍已经很难了:D 好！我们这也有一台磁控溅射仪器有问题一起研究呀我的QQ Originally posted by ufoer at
英语拼音说的对，还得看书。推荐你一本比较好的书吧，科学出版社的《薄膜生长》，吴自勤、王兵著，06年第四版的。很便宜，才28块。这年头这个价钱能买一本专业书籍已经很难了:D 呵呵，我已经下来了！ 是啊 太多因素了&&很多不是单调的&&不过很多的沉积条件的窗口不是那么窄吧 是的啊 不过主要还是压强 温度 和功率最主要。
其中最主要的还是温度和压强。 参考下薄膜生长吧会对你有帮助:cool: 磁控溅射的影响因素是很多的，给你推荐个资料下载看看吧：http://emuch.net/bbs/viewthread.php?tid=436287&view=old 很好 啊 学习了 :rol:三维网上《真空材料》、《磁控溅射技术》两本书很好可惜没有权限看！
那位任兄有请发起共享！ 想必楼主是刚入门啊，多看看薄膜方面的书，还有溅射方面的 谁有磁控溅射方面的书，分享一下，谢谢 Originally posted by
谁有磁控溅射方面的书，分享一下，谢谢 很多论坛都有啊
/plugin/spread/?uid=1185 都是教材里面的基本资料，找一本教材，好好看看，得到的会比用网络得到的更详细啊。您当前位置：&&&
&&&如何监控磁控溅射镀膜玻璃的品质？
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提问者采纳
你就说你要买设备。你找不到追问我，先打个样全国到处都是。多多很的做下，你在北京那个地方要找PVD设备厂家
提问者评价
谢谢你的意见啊
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